Em um equipamento que possui um depósito de água e uma resistência calefatora, quando a água do reservatório é aquecida a 100C e atinge o ponto de ebulição, o vapor é emitido e deve serv
Em um equipamento que possui um depósito de água e uma resistência calefatora, quando a água do reservatório é aquecida a 100°C e atinge o ponto de ebulição, o vapor é emitido e deve servir como suporte para a liberação do gás que se mistura ao vapor liberado. A descrição é referente qual técnica? A Alta frequência. B Peeling ultrassônico. C Ultrassom estético. D Vapor de ozônio. E Peeling de diamante.
Em um equipamento que possui um depósito de água e uma resistência calefatora, quando a água do reservatório é aquecida a 100°C e atinge o ponto de ebulição, o vapor é emitido e deve servir como suporte para a liberação do gás que se mistura ao vapor liberado. A descrição é referente qual técnica? A Alta frequência. B Peeling ultrassônico. C Ultrassom estético. D Vapor de ozônio. E Peeling de diamante.