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Em um equipamento que possui um depósito de água e uma resistência calefatora, quando a água do reservatório é aquecida a 100C e atinge o ponto de ebulição, o vapor é emitido e deve serv

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João

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Questões resolvidas

Em um equipamento que possui um depósito de água e uma resistência calefatora, quando a água do reservatório é aquecida a 100°C e atinge o ponto de ebulição, o vapor é emitido e deve servir como suporte para a liberação do gás que se mistura ao vapor liberado.
A descrição é referente qual técnica?
A Alta frequência.
B Peeling ultrassônico.
C Ultrassom estético.
D Vapor de ozônio.
E Peeling de diamante.

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Questões resolvidas

Em um equipamento que possui um depósito de água e uma resistência calefatora, quando a água do reservatório é aquecida a 100°C e atinge o ponto de ebulição, o vapor é emitido e deve servir como suporte para a liberação do gás que se mistura ao vapor liberado.
A descrição é referente qual técnica?
A Alta frequência.
B Peeling ultrassônico.
C Ultrassom estético.
D Vapor de ozônio.
E Peeling de diamante.

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